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domenica 20 febbraio 2011

PPD (Pulsed Plasma Deposition) per essere leader nanotech nel mondo



Fonte immagine: http://www.ok-ambiente.com/contenuti/solare-fotovoltaico.film-sottile.jpg



In diversi centri di ricerca italiani, tra cui quelli con sede a Catania ( Etna Valley) e Siena ( Siena Solar Nanotech (2SN)), si studiano nuovi sistemi per produrre un fotovoltaico a film sottile che abbia sempre maggior efficienza e rendimento.
La PPD (Pulsed Plasma Deposition) è una tecnica che si basa sull’ablazione diretta di un target mediante impulsi di elettroni ad alta energia, in altre parole una tecnica che permette di prelevare del materiale da un dischetto detto target e “spruzzarlo” su un oggetto detto substrato. Così facendo si può ottenere sul substrato un sottilissimo rivestimento della stessa composizione del materiale di partenza. Sovrapponendo più strati di materiali diversi nel modo opportuno si ottiene una struttura che trasforma la luce in elettricità: la cella fotovoltaica.
Con questo procedimento si ottengono superfici fotovoltaiche di spessore invisibile all'occhio umano, applicabili anche su plastica perché prodotte non attraverso l'uso del laser ma per mezzo di un procedimento a freddo.
Nella competizione in atto a livello internazionale per la leadership tecnologica nel settore energetico la ricerca in Europa, Italia compresa, non teme confronti. Anche gli Stati Uniti guardano all’Europa con molto interesse quando si parla di ricerca scientifica specialmente nel campo delle nanotecnologie ed in particolare del fotovoltaico a film sottile.
Mentre la Cina è decisamente più indietro causa gli effetti distruttivi sulla tradizione accademica fatta dalla Rivoluzione Culturale, infatti, nonostante i notevoli investimenti dedicati alla ricerca, una solida rete di scuole accademiche e di centri di ricerca non si ricostruisce in pochi decenni.


Wikio

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